
气体分析仪(过程气体监测仪)
RGM2-201F
特点
排气系统和控制系统集成,实现纵向放置,即使在空间有限的生产线上也可以进行反应气体监测,因为足迹是世界上最小的。
在维护期间,灯丝套件的更换速度大大提高2名工人在10分钟内完成了120分钟的工作。
使用双灯丝,即使第一根灯丝断线,也可以在不停止生产线的情况下进行气体分析。
采用触摸屏,可以实时检查情况。
从启动到测量的操作仅在个人计算机上完成。
采用敝公司独特的带磁铁的Closed Ion Source,即使在反应性过程中也可以长时间稳定测量。
由于具有低气体解离和高灵敏度的电离室,因此仅使用法拉第杯就可以进行高灵敏度的气体分析。
一种紧凑的流道控制阀,可防止热反应引起的分解和吸附。
缩短了从工艺室到离子源的距离,可以快速响应分解。
增强预防保护功能
离子源,二次电子倍增管的预防性保护
安装分析管的可追溯性功能 (专利5016031号)
标准软件与Windows 8/10/11兼容。
用途
CVD·ALD·Etching装置
过程中反应气体的监测
蚀刻清洗过程的端点监视器
残余气体测量
规格
传感器
质量数范围 (amu) 1~200
分辨率 (M/ΔM) M/ΔM=1M(10%P.H.)
探测器 法拉第杯 (FC)
灵敏度 (A/Pa) *1 1e-5A/Pa (孔口直接引入,Ie=50uA)
Ee50V时,N2气体=5e-4Pa
最小检测分压 (Pa) *1 e-10Pa台(EE50V, Ie500uA时)
全压测定功能 *1 有
全压测定范围 *1 1e-3~e-6 Pa台
离子源 带磁铁的Closed Ion Source
灯丝 Ir/Y2O32支 (其中1支为备用)
电离电压 (EE;eV) 20~70eV (Ie50uA时建议使用50V设置)
发射电流 (IE;uA) 50uA/500uA (流程测量建议使用EE50V、50uA)
*1 备用灯丝 (FIL2) 不适用